工控網首頁
>

應用設計

>

制造一顆硅晶圓需要的半導體設備有哪些?

制造一顆硅晶圓需要的半導體設備有哪些?

2022/4/2 15:53:23

制作一顆硅晶圓需要的半導體設備大致有十個,它們分別是單晶爐、氣相外延爐、氧化爐、磁控濺射臺、化學機械拋光機、光刻機、離子注入機、引線鍵合機、晶圓劃片機、晶圓減薄機。

1、單晶爐

單晶爐是一種在惰性氣體(氮氣、氦氣為主)環境中,用石墨加熱器將多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生長無錯位單晶硅的設備。在實際生產單晶硅過程中,它扮演著控制硅晶體的溫度和質量的關鍵作用。

由于單晶直徑在生長過程中可受到溫度、提拉速度與轉速、坩堝跟蹤速度、保護氣體流速等因素影響,其中生產的溫度主要決定能否成晶,而速度將直接影響到晶體的內在質量,而這種影響卻只能在單晶拉出后通過檢測才能獲知,單晶爐主要控制的方面包括晶體直徑、硅功率控制、泄漏率和氬氣質量等。

2、氣相外延爐

氣相外延爐主要是為硅的氣相外延生長提供特定的工藝環境,實現在單晶上生長與單晶晶相具有對應關系的薄層晶體。外延生長是指在單晶襯底(基片)上生長一層有一定要求的、與襯底晶向相同的單晶層,猶如原來的晶體向外延伸了一段,為了制造高頻大功率器件,需要減小集電極串聯電阻,又要求材料能耐高壓和大電流,因此需要在低阻值襯底上生長一層薄的高阻外延層。

氣相外延爐能夠為單晶沉底實現功能化做基礎準備,氣相外延即化學氣相沉積的一種特殊工藝,其生長薄層的晶體結構是單晶襯底的延續,而且與襯底的晶向保持對應的關系。

3、氧化爐

硅與含有氧化物質的氣體,例如水汽和氧氣在高溫下進行化學反應,而在硅片表面產生一層致密的二氧化硅薄膜,這是硅平面技術中一項重要的工藝。氧化爐的主要功能是為硅等半導體材料進行氧化處理,提供要求的氧化氛圍,實現半導體預期設計的氧化處理過程,是半導體加工過程的不可缺少的一個環節。

4、磁控濺射臺

磁控濺射是物理氣相沉積的一種,一般的濺射法可被用于制備半導體等材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。在硅晶圓生產過程中,通過二極濺射中一個平行于靶表面的封閉磁場,和靶表面上形成的正交電磁場,把二次電子束縛在靶表面特定區域,實現高離子密度和高能量的電離,把靶原子或分子高速率濺射沉積在基片上形成薄膜。

5、化學機械拋光機

一種進行化學機械研磨的機器,在硅晶圓制造中,隨著制程技術的升級、導線與柵極尺寸的縮小,光刻技術對晶圓表面的平坦程度的要求越來越高,IBM公司于1985年發展CMOS產品引入,并在1990年成功應用于64MB的DRAM生產中,1995年以后,CMP技術得到了快速發展,大量應用于半導體產業。

化學機械研磨亦稱為化學機械拋光,其原理是化學腐蝕作用和機械去除作用相結合的加工技術,是目前機械加工中唯一可以實現表面全局平坦化的技術。在實際制造中,它主要的作用是通過機械研磨和化學液體溶解“腐蝕”的綜合作用,對被研磨體(半導體)進行研磨拋光。

6、光刻機

又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等,常用的光刻機是掩膜對準光刻,一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。在硅片表面勻膠,然后將掩模版上的圖形轉移光刻膠上的過程將器件或電路結構臨時“復制”到硅片上的過程。

7、離子注入機

它是高壓小型加速器中的一種,應用數量最多。它是由離子源得到所需要的離子,經過加速得到幾百千電子伏能量的離子束流,用做半導體材料、大規模集成電路和器件的離子注入,還用于金屬材料表面改性和制膜等  。

在進行硅生產工藝里面,需要用到離子注入機對半導體表面附近區域進行摻雜,離子注入機是集成電路制造前工序中的關鍵設備,離子注入是對半導體表面附近區域進行摻雜的技術目的是改變半導體的載流子濃度和導電類型,離子注入與常規熱摻雜工藝相比可對注入劑量角度和深度等方面進行精確的控制,克服了常規工藝的限制,降低了成本和功耗。

8、引線鍵合機

它的主要作用是把半導體芯片上的Pad與管腳上的Pad,用導電金屬線(金絲)鏈接起來。引線鍵合是一種使用細金屬線,利用熱、壓力、超聲波能量為使金屬引線與基板焊盤緊密焊合,實現芯片與基板間的電氣互連和芯片間的信息互通。在理想控制條件下,引線和基板間會發生電子共享或原子的相互擴散,從而使兩種金屬間實現原子量級上的鍵合。

9、晶圓劃片機

因為在制造硅晶圓的時候,往往是一整大片的晶圓,需要對它進行劃片和處理,這時候晶圓劃片機的價值就體現出了。之所以晶圓需要變換尺寸,是為了制作更復雜的集成電路。

10、晶圓減薄機

在硅晶圓制造中,對晶片的尺寸精度、幾何精度、表面潔凈度以及表面微晶格結構提出很高要求,因此在幾百道工藝流程中,不可采用較薄的晶片,只能采用一定厚度的晶片在工藝過程中傳遞、流片。晶圓減薄,是在制作集成電路中的晶圓體減小尺寸,為了制作更復雜的集成電路。在集成電路封裝前,需要對晶片背面多余的基體材料去除一定的厚度,這一工藝需要的裝備就是晶片減薄機。

當然了,在實際的生產過程中,硅晶圓制造需要的設備遠不止上面列的這些。那么以上就是小編今天要分享給大家的所有內容啦,大家有任何問題可留言給我們哦~

備注:本文素材來源于網絡,僅作學習與交流,所有觀點屬于原作者,不代表對該觀點表示支持或贊同,如有侵犯到您的權利,請及時聯系我們刪除。

審核編輯(
王靜
)
投訴建議

評論

查看更多評論
其他資訊

查看更多

IGBT保護技術在光伏逆變器的核心利用

電子元件中的電感器,你又了解多少?

科普|IGBT開關時間的定義

電子元件中的電容器,你了解多少?

硅晶圓制造的三大步驟,你知道嗎?